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基于tsmc55nmLP工艺的LC_PLL版图设计集成电路布图设计登记证书

成都维思芯科电子科技有限公司已于2018年6月21日向国家知识产权局申请的基于tsmc55nmLP工艺的LC_PLL版图设计集成电路布图设计登记,布图设计登记号为BS.185557562,基于tsmc55nmLP工艺的LC_PLL版图设计集成电路布图产权归成都维思芯科电子科技有限公司所有,根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,受到法律保护。
布图设计登记号:BS.185557562
布图设计申请日:2018年6月21日
布图设计权利人姓名或名称:成都维思芯科电子科技有限公司
布图设计权利人地址:
布图设计名称:基于tsmc55nmLP工艺的LC_PLL版图设计
布图设计创作完成日:
布图设计首次投入商业利用日: